micro resist technology（MRT）是一家德国高性能微纳加工材料制造商，长期专注于光刻胶、纳米压印材料、混杂聚合物、喷墨打印材料及光刻辅助化学品的研发与生产。公司产品广泛应用于半导体制造、MEMS、微光学、光子学、微流控、生物芯片、先进封装及科研领域，并持续推出符合环保要求的PFAS-Free产品体系，为微纳制造提供完整的材料解决方案。

Negative Photoresists（负性光刻胶）

MRT负性光刻胶适用于紫外光（UV）、深紫外（DUV）及电子束（E-beam）光刻工艺，采用非化学放大型（Non-CAR）配方，具有优异的图形分辨率、热稳定性和抗刻蚀能力。曝光区域发生交联后保留图形，适用于Lift-off、电镀模具、刻蚀掩膜及永久结构制备，可满足从亚微米到厚膜结构加工需求，在MEMS器件、微流控芯片、光电子器件和微纳加工中得到广泛应用。

Positive Photoresists（正性光刻胶）

MRT正性光刻胶采用成熟的DNQ/Novolak体系，适用于标准UV光刻、激光直写、灰度曝光及激光干涉光刻等工艺。产品覆盖多种膜厚范围，具有显影窗口宽、图形保真度高、无需后烘烤（PEB）及易去胶等特点，可用于半导体器件、LED、MEMS、微光学元件及微结构加工，尤其适合需要高精度二维及三维微结构制造的科研与工业应用。

Hybrid Polymers（混杂聚合物）

MRT自主开发的OrmoComp®、OrmoClear®、OrmoCore®及OrmoClad®等ORMOCER®混杂聚合物，将有机聚合物的柔韧性与无机材料的稳定性相结合，兼具高透明度、低收缩率、优异机械性能和耐化学腐蚀性能。该系列材料可应用于紫外光刻、紫外复制、双光子聚合（2PP）及3D激光直写技术，广泛用于微透镜、衍射光学元件（DOE）、光波导、光通信器件及微流控芯片等高端微光学领域。

Nanoimprint Resists（纳米压印材料）

纳米压印光刻（Nanoimprint Lithography，NIL）是近年来发展迅速的低成本、高分辨率微纳制造技术，可实现纳米级图形的大面积复制。MRT提供适用于UV压印、热压印（Thermal NIL）及卷对卷压印（Roll-to-Roll NIL）的完整材料体系，具有低粘度、高复制精度、优异脱模性能和良好的抗刻蚀能力，可满足光子晶体、AR/VR光学、Micro-LED、柔性电子、生物传感器及纳米结构加工等先进制造需求。

Inkjet Materials（喷墨打印材料）

随着数字化制造技术的发展，喷墨打印逐渐成为微纳结构制备的重要工艺。MRT喷墨打印材料具有稳定的液滴形成能力、可调节黏度及优异的紫外固化性能，可直接应用于商业喷墨打印设备，实现微透镜、波导、保护层、胶粘层及微流控结构的精密制造，为功能材料直接图形化提供了高效、低成本的解决方案。

Ancillaries（辅助化学品）

除核心光刻材料外，MRT还提供完善的光刻辅助化学品，包括稀释剂、底涂（Primer）、附着力促进剂、显影液、去胶液、保护层及刻蚀液等，可与各系列光刻胶及聚合物配套使用。完整的辅助材料体系不仅能够优化光刻工艺窗口，提高图形质量和附着力，还能有效提升刻蚀性能、显影均匀性及最终器件良率，为科研开发和规模化生产提供稳定可靠的工艺支持。

凭借丰富的光刻材料产品体系和完善的工艺配套方案，micro resist technology能够为微纳加工提供从光刻胶、纳米压印材料、微光学聚合物到辅助化学品的一站式解决方案。其产品覆盖紫外光刻、电子束光刻、纳米压印、喷墨打印、双光子聚合等多种先进制造技术，广泛应用于半导体、MEMS、微光学、光通信、生物芯片及科研创新等多个领域，是全球微纳制造材料领域的重要供应商之一。